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河裾 厚男; 荒井 秀幸*; 平田 浩一*; 関口 隆史*; 小林 慶規*; 岡田 漱平
Radiation Physics and Chemistry, 58(5-6), p.615 - 619, 2000/06
被引用回数:3 パーセンタイル:26.42(Chemistry, Physical)1.54mの赤外波長域に鋭い発光ピークを示すErをSiO/Si(膜厚500に注入し、発光強度のアニール挙動やドーズ依存性、エネルギー依存性について調べるとともに注入によって発生した損傷の回復過程を低速陽電子ビームを用いた陽電子消滅測定及び、電子スピン共鳴吸収測定(ESR)により調べた。発光特性については、30keVで注入した場合には注入後発光が全く観測されないのに対し、300keVの場合には熱処理を施さなくても発光が見られるなど大きな違いが見られた。陽電子消滅測定及びESR測定の結果、30keVの場合に注入量が少ないと大半の欠陥は600Cまでのアニールで消失するが発光は900Cで著しい増加を示すことがわかった。すなわち欠陥の回復と発光の増加は完全に一致しておらず、これより600Cで欠陥の回復を経て、900CでErが光学的に活性な状態へ移行するものと考えられる。また注入量が高い場合ESR欠陥は600Cまでになくなるが、陽電子消滅パラメータは完全回復からはかけ離れていることがわかった。これより、欠陥がかなり残留するか、Erが陽電子消滅に影響するなどの効果が示唆される。
山本 博之; 馬場 祐治
Photon Factory Activity Report 1998, P. 136, 1999/11
光電効果により放出される電子の脱出深さは、電子の運動エネルギーに依存する。我々は従来まで、この傾向をX線光電子分光法に応用し、固体表面の非破壊深さ分析を試みてきた。これに対し、X線吸収端微細構造法(XANES)を用いると、より微量での化学状態分析が非破壊で可能になると期待される。一方、本法は定量的な情報が得られにくい、ある深さからの情報のみを取り出すことが難しい、などの理由により深さ方向分析は困難と考えられてきた。本研究においては、XANESを用いて深さ方向に関する情報を得ることを目的とした。Si上に生成したSiO薄膜の測定結果から、測定する電子の運動エネルギーを変化させた場合、XANESスペクトルのSiO/Si比は系統的に変化することから、深さ方向の情報が得られることを明らかにできた。
尾嶋 正治*; 吉村 裕介*; 小野 寛太*; 藤岡 洋*; 佐藤 芳之*; 馬場 祐治; 吉井 賢資; 佐々木 貞吉
Journal of Electron Spectroscopy and Related Phenomena, 88-91, p.603 - 607, 1998/00
被引用回数:5 パーセンタイル:25.68(Spectroscopy)P-型Si(100)にリンを300keVでイオン注入した後、800Cに加熱することによりSiO/Si界面に析出したリン原子の存在状態を共鳴オージェ電子分光法により調べた。絶縁体における共鳴オージェ電子スペクトルは、ノーマルオージェとスペクテータオージェに分裂するとともに、スペクテータオージェピークのエネルギーシフトが観測される。しかしSiO/Si界面に析出したリンでは、スペクテータオージェピークは観測されなかった。このことからリン原子はSiOサイトではなく、Siサイトに存在していることが明らかとなった。